운영 원칙
- 공식 문서를 우선으로 참고하고, 내 해석은 따로 분리합니다.
- 가능한 한 모든 글에 출처를 함께 표기합니다.
- 이미지는 공식 페이지의 자료를 우선 사용하고, 출처를 함께 적습니다.
- 메인은 공부 기록, 도구는 서브 페이지로 분리합니다.
콘텐츠 방향
현재는 EUV 입문, 공정 구조, High NA, 제조사별 전략 비교, 중국의 EUV 접근 방식 같은 주제를 내가 이해한 순서대로 쌓아가고 있습니다. 이후에는 검색, 태그, 카테고리 분류를 더 보강할 예정입니다.
광고와 사이트 경험
광고는 페이지의 가독성을 해치지 않는 범위에서 배치하고, 방문자가 먼저 읽을 수 있는 공부 노트가 보이도록 구성합니다. 심사와 노출이 가능한 구조를 유지하면서도, 메인 콘텐츠가 우선이 되도록 정리했습니다.
이미지와 출처
현재 글에 쓰인 이미지는 ASML 등 공식 출처를 직접 연결해두고 있습니다. 다만 실제 사용 권한은 별도로 확인해야 하므로, 필요한 경우 더 명확한 허가 상태로 교체할 수 있습니다.
연락처
문의는 admin@euv.info로 받습니다.
참고 문서
- ASML - Lithography principlesEUV와 리소그래피 기본 기준
- ASML - EUV lithography systems장비 구조와 공식 설명
- Google AdSense - Make sure your site's pages are ready구조와 탐색성에 대한 가이드